目(mu)前石(shi)英(ying)坩堝生產涂(tu)層技術已被大(da)多數廠家使用就是在普通石(shi)英(ying)砂溶制的坩堝表面涂(tu)上一層高純度石(shi)英(ying)砂使其形成致密(mi)層，其致密(mi)層能阻止單晶硅(gui)高溫拉制過(guo)程中硅(gui)與石(shi)英(ying)坩堝反(fan)應提高成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純石(shi)(shi)英(ying)砂(sha)→高(gao)純石(shi)(shi)墨(mo)模具→真空(kong)裝(zhuang)料成型→真空(kong)電弧熔制(zhi)→自然冷卻脫模→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)初步檢(jian)測(ce)→冷加工(gong)噴砂(sha)、切斷、倒角→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)二次檢(jian)測(ce)→超凈清洗、超聲(sheng)、高(gao)壓(ya)噴淋(lin)、自動烘干→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)三次檢(jian)驗→真空(kong)包裝(zhuang)→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可在1450度以下(xia)使(shi)用，分(fen)透(tou)明和不透(tou)明兩種。用電(dian)弧法制(zhi)的半透(tou)明石英坩堝是拉制(zhi)大直徑單晶硅，發展(zhan)大規模集(ji)成電(dian)路必不可少的基(ji)礎材料。

當今，世(shi)界半導體工業發達已(yi)用此坩(gan)堝(guo)取(qu)代了小的透明石英坩(gan)堝(guo)。具有(you)高純度、耐溫(wen)性強、尺(chi)寸(cun)大精度高、保溫(wen)性好、節約能源、質量穩(wen)定等優點(dian)。

　　2、不能和(he)HF接觸，高(gao)溫時，較容易易和(he)苛性(xing)堿及堿金屬的(de)碳酸鹽作(zuo)用(yong)。

　　3、石英坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑熔(rong)融(rong)樣品(pin)和用(yong)Na2S207（先在(zai)212度烘(hong)干）作熔(rong)劑處(chu)理樣品(pin)。

　　4、石英質脆，易破(po)，使(shi)用時要注意。

　　5、除(chu)HF外(wai)，普(pu)通稀無機酸可用作清洗液。