目前石英坩堝(guo)生產(chan)涂(tu)層技術已被(bei)大多數廠(chang)家使用就是在普(pu)通石英砂(sha)溶制的坩堝(guo)表(biao)面涂(tu)上一層高(gao)純度石英砂(sha)使其形(xing)成致(zhi)(zhi)密(mi)層，其致(zhi)(zhi)密(mi)層能阻止單晶(jing)硅(gui)高(gao)溫拉制過程中硅(gui)與石英坩堝(guo)反應提高(gao)成晶(jing)率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼(ni)明高(gao)純(chun)石英(ying)(ying)砂(sha)→高(gao)純(chun)石墨模具→真(zhen)空(kong)裝料成型→真(zhen)空(kong)電弧熔制→自(zi)然冷卻脫模→石英(ying)(ying)坩(gan)堝初步(bu)檢(jian)測(ce)→冷加工噴砂(sha)、切斷、倒角→石英(ying)(ying)坩(gan)堝二次(ci)檢(jian)測(ce)→超凈清洗(xi)、超聲、高(gao)壓噴淋(lin)、自(zi)動烘干→石英(ying)(ying)坩(gan)堝三(san)次(ci)檢(jian)驗→真(zhen)空(kong)包裝→成品(pin)入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩堝可在1450度以下(xia)使用，分透明(ming)(ming)和不透明(ming)(ming)兩種。用電弧法制的半(ban)透明(ming)(ming)石(shi)英坩堝是拉制大直(zhi)徑單晶(jing)硅，發展大規模(mo)集成電路必不可少的基礎材料(liao)。

當今，世(shi)界半導體工業發達已用此坩堝(guo)取(qu)代了小的(de)透明石英(ying)坩堝(guo)。具有高(gao)純度、耐溫性強、尺(chi)寸大精度高(gao)、保溫性好(hao)、節約(yue)能源、質量(liang)穩定等優點。

　　2、不能和(he)HF接觸，高溫時，較容易(yi)易(yi)和(he)苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。

　　3、石英坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)(rong)劑熔(rong)(rong)融(rong)樣(yang)(yang)品和用(yong)Na2S207（先在(zai)212度烘(hong)干）作熔(rong)(rong)劑處理樣(yang)(yang)品。

　　4、石英(ying)質脆(cui)，易破(po)，使用時要注(zhu)意。

　　5、除HF外，普通稀無機(ji)酸可用作清洗(xi)液。