目前石英坩堝(guo)生產涂(tu)層(ceng)技術已被大多數廠(chang)家(jia)使(shi)用就(jiu)是(shi)在普(pu)通石英砂溶制的坩堝(guo)表面涂(tu)上一層(ceng)高(gao)純(chun)度石英砂使(shi)其(qi)形成致密(mi)層(ceng)，其(qi)致密(mi)層(ceng)能(neng)阻止單晶硅高(gao)溫拉制過(guo)程中硅與(yu)石英坩堝(guo)反應提(ti)高(gao)成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石英砂→高純石墨(mo)模(mo)(mo)具→真空(kong)裝料成(cheng)型→真空(kong)電(dian)弧(hu)熔(rong)制→自(zi)然冷(leng)卻(que)脫模(mo)(mo)→石英坩堝初步檢(jian)(jian)測→冷(leng)加工(gong)噴(pen)砂、切斷、倒角→石英坩堝二次(ci)檢(jian)(jian)測→超(chao)凈清洗、超(chao)聲、高壓噴(pen)淋、自(zi)動烘(hong)干→石英坩堝三次(ci)檢(jian)(jian)驗(yan)→真空(kong)包(bao)裝→成(cheng)品(pin)入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩(gan)堝可(ke)在1450度以下使用，分透明(ming)和不(bu)透明(ming)兩種(zhong)。用電弧法制的半透明(ming)石(shi)英坩(gan)堝是拉(la)制大直徑(jing)單晶(jing)硅，發展(zhan)大規模集成電路必不(bu)可(ke)少(shao)的基礎材料。

當今(jin)，世(shi)界半導體(ti)工業(ye)發達已用此坩堝取代了小的透(tou)明石英坩堝。具(ju)有(you)高(gao)純(chun)度、耐溫性(xing)強(qiang)、尺寸(cun)大精度高(gao)、保溫性(xing)好、節(jie)約能(neng)源、質量穩定(ding)等優(you)點(dian)。

　　2、不(bu)能和(he)HF接(jie)觸，高(gao)溫(wen)時，較容(rong)易易和(he)苛性堿及堿金屬的碳酸(suan)鹽作用(yong)。

　　3、石(shi)英坩(gan)堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔劑(ji)熔融樣品和用(yong)Na2S207（先(xian)在212度烘干(gan)）作熔劑(ji)處理樣品。

　　4、石英質脆(cui)，易破，使用(yong)時要(yao)注(zhu)意。

　　5、除(chu)HF外，普通稀無機酸可用(yong)作(zuo)清(qing)洗液。