目前石英坩(gan)堝(guo)(guo)生產(chan)涂(tu)層(ceng)技術已被(bei)大多數廠(chang)家使(shi)用就是(shi)在(zai)普通石英砂(sha)溶制的坩(gan)堝(guo)(guo)表面涂(tu)上一層(ceng)高純(chun)度石英砂(sha)使(shi)其(qi)形(xing)成(cheng)致密層(ceng)，其(qi)致密層(ceng)能阻止單晶(jing)硅高溫拉制過(guo)程中硅與石英坩(gan)堝(guo)(guo)反應提(ti)高成(cheng)晶(jing)率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明(ming)高(gao)(gao)純石(shi)英(ying)(ying)砂(sha)→高(gao)(gao)純石(shi)墨模具(ju)→真空裝(zhuang)料成型→真空電弧熔制→自然冷卻脫(tuo)模→石(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝初(chu)步檢(jian)測→冷加工噴砂(sha)、切斷、倒角→石(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝二次檢(jian)測→超凈清(qing)洗、超聲、高(gao)(gao)壓(ya)噴淋、自動烘干→石(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝三次檢(jian)驗→真空包裝(zhuang)→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)坩堝可(ke)在1450度(du)以(yi)下使用(yong)，分透明和不透明兩種。用(yong)電弧法制的半透明石英(ying)坩堝是拉(la)制大直徑單晶硅，發(fa)展大規模集成(cheng)電路必(bi)不可(ke)少的基(ji)礎材料。

當今，世界半導體(ti)工業發(fa)達已用此坩(gan)堝取代了小的透(tou)明石英坩(gan)堝。具有高純度、耐(nai)溫性(xing)強、尺寸大精(jing)度高、保溫性(xing)好、節約能(neng)源、質量(liang)穩定等優點(dian)。

　　2、不能和HF接觸，高溫時，較(jiao)容易易和苛(ke)性堿及堿金屬的碳酸(suan)鹽作用。

　　3、石英坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔(rong)(rong)劑熔(rong)(rong)融樣(yang)品和用(yong)Na2S207（先在(zai)212度烘(hong)干）作(zuo)熔(rong)(rong)劑處理樣(yang)品。

　　4、石英(ying)質脆，易破，使用時要(yao)注意。

　　5、除HF外，普通稀無機酸(suan)可(ke)用作清洗液。