目前(qian)石(shi)英坩(gan)(gan)堝生(sheng)產涂層技術已被大多數廠(chang)家使(shi)用(yong)就(jiu)是在普(pu)通石(shi)英砂溶制的坩(gan)(gan)堝表面涂上一層高(gao)純度石(shi)英砂使(shi)其(qi)(qi)形(xing)成致密層，其(qi)(qi)致密層能阻止單晶硅高(gao)溫拉制過程中硅與石(shi)英坩(gan)(gan)堝反(fan)應提高(gao)成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤(you)尼(ni)明高(gao)(gao)純石英(ying)砂→高(gao)(gao)純石墨(mo)模(mo)具(ju)→真(zhen)空裝料(liao)成(cheng)型→真(zhen)空電弧熔制→自(zi)(zi)然冷卻脫模(mo)→石英(ying)坩堝(guo)初步檢(jian)測→冷加工(gong)噴(pen)(pen)砂、切斷(duan)、倒(dao)角→石英(ying)坩堝(guo)二次檢(jian)測→超(chao)凈清洗、超(chao)聲、高(gao)(gao)壓噴(pen)(pen)淋、自(zi)(zi)動烘(hong)干→石英(ying)坩堝(guo)三次檢(jian)驗(yan)→真(zhen)空包裝→成(cheng)品入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)坩(gan)堝(guo)可(ke)在1450度以下使用，分透(tou)(tou)明和(he)不透(tou)(tou)明兩(liang)種。用電(dian)弧(hu)法制的半透(tou)(tou)明石英(ying)坩(gan)堝(guo)是拉制大(da)直徑單晶(jing)硅，發展大(da)規模集成電(dian)路必不可(ke)少的基礎材(cai)料。

當(dang)今，世界半(ban)導體工(gong)業發達已用此坩堝(guo)取代了小的透明石英坩堝(guo)。具(ju)有高純度、耐溫性強(qiang)、尺(chi)寸(cun)大(da)精度高、保(bao)溫性好、節約(yue)能源、質量(liang)穩定等優點。

　　2、不能(neng)和HF接觸，高溫時，較容易(yi)易(yi)和苛性(xing)堿(jian)(jian)及堿(jian)(jian)金(jin)屬(shu)的碳酸(suan)鹽作用(yong)。

　　3、石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑熔(rong)融樣(yang)品(pin)和用Na2S207（先(xian)在212度(du)烘干）作熔(rong)劑處理樣(yang)品(pin)。

　　4、石英質脆(cui)，易破，使(shi)用時要注意。

　　5、除HF外(wai)，普通(tong)稀無(wu)機酸可用(yong)作清洗液。