目前石英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)生產(chan)涂(tu)層技術已(yi)被大多數(shu)廠(chang)家使用就是在普通(tong)石英(ying)砂(sha)溶制(zhi)的坩(gan)堝(guo)(guo)表面涂(tu)上(shang)一(yi)層高(gao)純度(du)石英(ying)砂(sha)使其(qi)形成(cheng)致(zhi)密(mi)層，其(qi)致(zhi)密(mi)層能阻止單(dan)晶硅(gui)高(gao)溫拉制(zhi)過(guo)程中硅(gui)與石英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)反應提高(gao)成(cheng)晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼(ni)明高純(chun)石英砂→高純(chun)石墨(mo)模具(ju)→真空裝料成型→真空電弧熔制→自然冷(leng)卻脫模→石英坩堝(guo)初步檢測→冷(leng)加工噴(pen)砂、切斷(duan)、倒角→石英坩堝(guo)二次(ci)檢測→超凈清洗(xi)、超聲、高壓(ya)噴(pen)淋、自動烘干(gan)→石英坩堝(guo)三次(ci)檢驗(yan)→真空包(bao)裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)可在1450度以下使用，分透(tou)明和不透(tou)明兩(liang)種。用電弧法制的半透(tou)明石英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)是拉(la)制大直徑單晶硅，發展大規模集成電路必不可少(shao)的基礎材料。

當今，世界半(ban)導體工(gong)業發達已(yi)用此坩(gan)堝(guo)取(qu)代了小(xiao)的透明石英坩(gan)堝(guo)。具有高純度、耐溫性強、尺寸大(da)精度高、保溫性好、節(jie)約能源、質(zhi)量穩定等(deng)優(you)點(dian)。

　　2、不能和HF接觸，高溫(wen)時，較容易(yi)易(yi)和苛性(xing)堿(jian)及堿(jian)金屬(shu)的碳酸鹽作用。

　　3、石英坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔劑(ji)熔融(rong)樣品和用(yong)Na2S207（先在212度(du)烘干(gan)）作熔劑(ji)處理(li)樣品。

　　4、石(shi)英質脆，易破，使用時要注意。

　　5、除HF外(wai)，普通稀無機(ji)酸可用作清洗液。