目前石(shi)英(ying)坩堝生產(chan)涂層(ceng)技術已被(bei)大多數廠家使用就是在普通石(shi)英(ying)砂溶(rong)制的(de)坩堝表面涂上(shang)一層(ceng)高純度石(shi)英(ying)砂使其形(xing)成致(zhi)密(mi)層(ceng)，其致(zhi)密(mi)層(ceng)能阻止(zhi)單晶(jing)硅高溫拉制過程(cheng)中(zhong)硅與石(shi)英(ying)坩堝反應提高成晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤(you)尼明高純石(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)(ying)砂→高純石(shi)(shi)墨模(mo)具→真空(kong)(kong)裝料成型→真空(kong)(kong)電(dian)弧熔制→自(zi)然冷(leng)卻脫模(mo)→石(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)(ying)坩堝初步檢(jian)測→冷(leng)加工噴(pen)砂、切斷、倒角→石(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)(ying)坩堝二次檢(jian)測→超(chao)(chao)凈清洗、超(chao)(chao)聲、高壓噴(pen)淋、自(zi)動烘(hong)干→石(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)(ying)坩堝三次檢(jian)驗(yan)→真空(kong)(kong)包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可(ke)(ke)在1450度以下使用，分透明和不(bu)透明兩種。用電弧法制的(de)半透明石英坩堝是(shi)拉制大直徑(jing)單晶硅，發展大規模(mo)集成電路必不(bu)可(ke)(ke)少的(de)基(ji)礎材料(liao)。

當今(jin)，世界半導體工業發達(da)已用此坩堝取代了(le)小的透(tou)明石英坩堝。具有高純(chun)度(du)、耐溫(wen)(wen)性強、尺(chi)寸大精度(du)高、保溫(wen)(wen)性好(hao)、節約(yue)能源(yuan)、質量穩定(ding)等優點。

　　2、不能和HF接觸，高溫時(shi)，較容易易和苛(ke)性堿及(ji)堿金屬(shu)的碳酸鹽作用。

　　3、石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207（先在212度(du)烘干）作熔劑處(chu)理樣品。

　　4、石英質(zhi)脆(cui)，易破，使用時要注意。

　　5、除HF外，普通(tong)稀(xi)無(wu)機酸可(ke)用作清(qing)洗液。