目前石英(ying)坩(gan)(gan)堝生(sheng)產涂層技(ji)術(shu)已被大(da)多數廠家使用就是(shi)在(zai)普通(tong)石英(ying)砂(sha)溶制的(de)坩(gan)(gan)堝表面(mian)涂上一層高純度(du)石英(ying)砂(sha)使其(qi)形(xing)成致密層，其(qi)致密層能阻止單晶(jing)硅(gui)高溫(wen)拉制過程中硅(gui)與石英(ying)坩(gan)(gan)堝反應提高成晶(jing)率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純石(shi)英(ying)砂→高(gao)純石(shi)墨模具→真空(kong)(kong)裝料成(cheng)(cheng)型(xing)→真空(kong)(kong)電弧熔制→自(zi)然冷卻(que)脫模→石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)初步檢(jian)測→冷加工噴砂、切斷、倒角→石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)二次(ci)檢(jian)測→超凈清洗(xi)、超聲(sheng)、高(gao)壓(ya)噴淋、自(zi)動烘干(gan)→石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)三次(ci)檢(jian)驗(yan)→真空(kong)(kong)包裝→成(cheng)(cheng)品入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)(shi)英坩堝(guo)可(ke)在(zai)1450度以下使用，分(fen)透明和不透明兩種。用電弧法制的半(ban)透明石(shi)(shi)英坩堝(guo)是拉制大直徑單(dan)晶硅，發展(zhan)大規模集(ji)成電路必不可(ke)少的基礎(chu)材料。

當(dang)今，世界(jie)半(ban)導體工(gong)業發達(da)已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。具有高純度、耐溫性(xing)強、尺寸大精度高、保(bao)溫性(xing)好、節(jie)約能源、質量穩定(ding)等優點。

　　2、不能(neng)和HF接觸，高溫時，較(jiao)容易(yi)(yi)易(yi)(yi)和苛性堿(jian)及(ji)堿(jian)金屬(shu)的碳酸(suan)鹽作用。

　　3、石英坩堝適于用(yong)(yong)K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔(rong)劑熔(rong)融(rong)樣品和用(yong)(yong)Na2S207（先在(zai)212度烘干）作(zuo)熔(rong)劑處理樣品。

　　4、石(shi)英(ying)質脆，易破(po)，使用時要注意(yi)。

　　5、除HF外，普通稀無(wu)機酸可用作清洗液。