目前石(shi)(shi)英坩(gan)堝生(sheng)產涂層技術已被大多數(shu)廠家使(shi)用就是(shi)在普通(tong)石(shi)(shi)英砂溶制的坩(gan)堝表面涂上一層高純(chun)度石(shi)(shi)英砂使(shi)其(qi)形成致密層，其(qi)致密層能(neng)阻止單(dan)晶(jing)(jing)硅高溫(wen)拉制過(guo)程中(zhong)硅與石(shi)(shi)英坩(gan)堝反應提高成晶(jing)(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石(shi)(shi)英砂→高純石(shi)(shi)墨模具(ju)→真空(kong)裝(zhuang)料成(cheng)型(xing)→真空(kong)電弧熔制(zhi)→自然(ran)冷卻脫模→石(shi)(shi)英坩(gan)堝(guo)初步檢(jian)測→冷加工噴砂、切斷、倒角→石(shi)(shi)英坩(gan)堝(guo)二(er)次檢(jian)測→超凈清(qing)洗、超聲、高壓噴淋、自動(dong)烘干→石(shi)(shi)英坩(gan)堝(guo)三次檢(jian)驗(yan)→真空(kong)包裝(zhuang)→成(cheng)品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩(gan)堝(guo)可(ke)在1450度以下使用(yong)，分透明和不(bu)透明兩(liang)種。用(yong)電弧法(fa)制的半透明石英坩(gan)堝(guo)是拉制大直徑單晶硅(gui)，發展(zhan)大規模集成(cheng)電路必不(bu)可(ke)少的基礎(chu)材料。

當今，世(shi)界半導體工業發達(da)已用(yong)此坩(gan)堝取代(dai)了小的透明石英(ying)坩(gan)堝。具有(you)高純度、耐溫(wen)性強、尺寸大精度高、保溫(wen)性好、節約(yue)能(neng)源、質量(liang)穩定等優點(dian)。

　　2、不(bu)能和(he)HF接觸，高溫時，較容易易和(he)苛性堿(jian)及(ji)堿(jian)金屬的碳(tan)酸鹽作用。

　　3、石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔(rong)(rong)劑熔(rong)(rong)融樣品(pin)和(he)用Na2S207（先在212度烘干）作(zuo)熔(rong)(rong)劑處理樣品(pin)。

　　4、石英質(zhi)脆，易破，使(shi)用時要注意(yi)。

　　5、除HF外，普通稀(xi)無機酸可用作清洗(xi)液。