目(mu)前石英坩堝(guo)生產涂層技術已被大多數廠家使用就(jiu)是在普通石英砂溶制的坩堝(guo)表面涂上一層高純度石英砂使其(qi)形成致密層，其(qi)致密層能(neng)阻止單晶(jing)硅高溫拉制過程中硅與(yu)石英坩堝(guo)反應提高成晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純(chun)(chun)石(shi)(shi)英砂→高(gao)純(chun)(chun)石(shi)(shi)墨模(mo)具(ju)→真(zhen)空(kong)(kong)(kong)裝料成(cheng)型(xing)→真(zhen)空(kong)(kong)(kong)電弧熔制→自(zi)然冷卻脫模(mo)→石(shi)(shi)英坩堝(guo)初步檢測→冷加工噴砂、切斷(duan)、倒角(jiao)→石(shi)(shi)英坩堝(guo)二次檢測→超(chao)凈清洗、超(chao)聲、高(gao)壓噴淋(lin)、自(zi)動烘干→石(shi)(shi)英坩堝(guo)三次檢驗→真(zhen)空(kong)(kong)(kong)包裝→成(cheng)品入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩堝(guo)可在1450度以下使用，分透明和不(bu)(bu)透明兩(liang)種。用電弧法(fa)制(zhi)的半透明石(shi)英坩堝(guo)是拉制(zhi)大直徑單晶硅，發展大規模集(ji)成電路(lu)必不(bu)(bu)可少的基礎材料。

當今，世界(jie)半導體(ti)工業發達已用(yong)此坩(gan)堝取(qu)代了小的(de)透明石英坩(gan)堝。具有高(gao)純度(du)、耐溫(wen)性(xing)強(qiang)、尺寸大精度(du)高(gao)、保溫(wen)性(xing)好(hao)、節約能源、質量穩定(ding)等優點。

　　2、不能(neng)和(he)HF接觸，高溫時，較(jiao)容易易和(he)苛(ke)性堿及(ji)堿金屬的碳酸鹽作用。

　　3、石英(ying)坩堝適(shi)于用K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔(rong)劑(ji)熔(rong)融樣品和用Na2S207（先在212度(du)烘干）作(zuo)熔(rong)劑(ji)處理(li)樣品。

　　4、石英質脆，易破，使用時要(yao)注意。

　　5、除HF外，普通稀無機酸(suan)可用作(zuo)清洗(xi)液。