目前(qian)石英(ying)坩堝生產涂層技術已被大多(duo)數廠家(jia)使用就(jiu)是在普(pu)通石英(ying)砂溶制的(de)坩堝表面涂上一層高純(chun)度石英(ying)砂使其(qi)形成致密(mi)層，其(qi)致密(mi)層能阻止(zhi)單(dan)晶硅(gui)高溫拉制過程中硅(gui)與石英(ying)坩堝反(fan)應(ying)提高成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明(ming)高純(chun)石(shi)英(ying)砂→高純(chun)石(shi)墨模(mo)(mo)具→真(zhen)空(kong)裝(zhuang)料成型→真(zhen)空(kong)電弧熔制(zhi)→自然冷(leng)卻脫(tuo)模(mo)(mo)→石(shi)英(ying)坩堝(guo)(guo)初(chu)步檢(jian)測→冷(leng)加工噴砂、切斷、倒角(jiao)→石(shi)英(ying)坩堝(guo)(guo)二(er)次檢(jian)測→超(chao)凈清(qing)洗、超(chao)聲、高壓噴淋、自動烘(hong)干→石(shi)英(ying)坩堝(guo)(guo)三次檢(jian)驗(yan)→真(zhen)空(kong)包裝(zhuang)→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英(ying)坩堝可在(zai)1450度以下使用(yong)(yong)，分(fen)透明和不(bu)透明兩種。用(yong)(yong)電(dian)弧(hu)法制的半透明石(shi)英(ying)坩堝是拉(la)制大直徑單晶硅，發展大規模集成電(dian)路必不(bu)可少的基礎材料(liao)。

當今(jin)，世(shi)界半導體工(gong)業發(fa)達(da)已用此(ci)坩堝取代了小的透明石(shi)英坩堝。具有高(gao)純度、耐溫(wen)性強、尺寸大精度高(gao)、保(bao)溫(wen)性好、節(jie)約(yue)能源(yuan)、質量穩定等(deng)優點(dian)。

　　2、不(bu)能和(he)HF接觸，高溫時(shi)，較容易易和(he)苛性(xing)堿及堿金屬的碳酸鹽(yan)作用。

　　3、石英坩堝(guo)適(shi)于(yu)用K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑熔(rong)融樣品和用Na2S207（先在212度烘干）作熔(rong)劑處理樣品。

　　4、石(shi)英質(zhi)脆，易破，使用時(shi)要注意。

　　5、除HF外，普通稀(xi)無機(ji)酸可用作清洗液。