目前石英坩(gan)堝生產涂層(ceng)(ceng)技術已被大(da)多(duo)數廠家(jia)使用就是(shi)在普通石英砂(sha)(sha)溶制(zhi)的坩(gan)堝表(biao)面涂上(shang)一層(ceng)(ceng)高(gao)純度(du)石英砂(sha)(sha)使其形(xing)成致(zhi)密(mi)層(ceng)(ceng)，其致(zhi)密(mi)層(ceng)(ceng)能阻止單晶(jing)硅(gui)高(gao)溫(wen)拉制(zhi)過程中硅(gui)與(yu)石英坩(gan)堝反應(ying)提高(gao)成晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼(ni)明(ming)高純石英(ying)砂→高純石墨(mo)模(mo)具→真(zhen)(zhen)空(kong)裝料(liao)成型→真(zhen)(zhen)空(kong)電弧熔制(zhi)→自然(ran)冷卻脫模(mo)→石英(ying)坩堝(guo)(guo)初(chu)步檢(jian)測(ce)→冷加(jia)工噴砂、切斷(duan)、倒角→石英(ying)坩堝(guo)(guo)二次檢(jian)測(ce)→超凈清洗(xi)、超聲、高壓噴淋、自動(dong)烘干→石英(ying)坩堝(guo)(guo)三(san)次檢(jian)驗→真(zhen)(zhen)空(kong)包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩(gan)堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電(dian)弧(hu)法制的半透明石英坩(gan)堝是拉(la)制大直徑(jing)單晶硅，發展(zhan)大規模集(ji)成(cheng)電(dian)路必不可少的基(ji)礎材料。

當今，世界半導體工業發達已用此坩堝(guo)取代(dai)了小(xiao)的透明(ming)石(shi)英坩堝(guo)。具有高純度、耐溫性強(qiang)、尺(chi)寸大精度高、保溫性好、節約(yue)能源、質量穩定等(deng)優點。

　　2、不能和HF接(jie)觸，高溫時，較容(rong)易易和苛性(xing)堿(jian)及堿(jian)金屬的碳酸鹽作用。

　　3、石英坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)(rong)劑(ji)熔(rong)(rong)融樣(yang)品和(he)用(yong)Na2S207（先(xian)在212度烘干）作熔(rong)(rong)劑(ji)處理樣(yang)品。

　　4、石英(ying)質脆(cui)，易破，使用(yong)時要注(zhu)意。

　　5、除HF外，普通稀無機酸(suan)可用作清(qing)洗液。