目前石英坩(gan)堝生產(chan)涂層(ceng)(ceng)技術(shu)已被大多數(shu)廠家(jia)使用(yong)就是在普通石英砂(sha)溶制(zhi)的坩(gan)堝表面(mian)涂上一層(ceng)(ceng)高純度石英砂(sha)使其(qi)形成(cheng)致(zhi)密層(ceng)(ceng)，其(qi)致(zhi)密層(ceng)(ceng)能阻止單晶硅高溫(wen)拉制(zhi)過程中硅與石英坩(gan)堝反應提(ti)高成(cheng)晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤(you)尼明高(gao)純石(shi)英(ying)砂(sha)→高(gao)純石(shi)墨模具→真空裝料(liao)成(cheng)型→真空電弧(hu)熔(rong)制→自然冷(leng)卻脫模→石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)初步檢測(ce)→冷(leng)加(jia)工噴(pen)砂(sha)、切(qie)斷、倒角(jiao)→石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)二次檢測(ce)→超凈清洗、超聲、高(gao)壓噴(pen)淋、自動烘干(gan)→石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)三次檢驗→真空包裝→成(cheng)品入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英(ying)坩堝可(ke)在1450度以下使用，分透明(ming)和不透明(ming)兩種。用電弧法制的半透明(ming)石(shi)英(ying)坩堝是拉(la)制大直徑單晶硅，發展大規模(mo)集(ji)成(cheng)電路(lu)必不可(ke)少(shao)的基礎材料(liao)。

當今，世界半導體工業發達已用此坩(gan)堝(guo)取代(dai)了小的透明石英坩(gan)堝(guo)。具有(you)高純度(du)、耐(nai)溫(wen)性(xing)強(qiang)、尺寸大精度(du)高、保溫(wen)性(xing)好、節約能源、質(zhi)量穩(wen)定等(deng)優點。

　　2、不能和HF接(jie)觸，高溫時，較容易易和苛性堿(jian)及堿(jian)金(jin)屬(shu)的碳酸鹽作(zuo)用。

　　3、石(shi)英(ying)坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔劑(ji)熔融樣品和用(yong)Na2S207（先在212度烘(hong)干）作熔劑(ji)處(chu)理樣品。

　　4、石英質脆，易破，使用時要(yao)注意(yi)。

　　5、除HF外，普通稀(xi)無機酸可用作清洗液。