目前石英(ying)(ying)坩堝生產(chan)涂層(ceng)(ceng)技術已被大多數廠家(jia)使用就是在普(pu)通石英(ying)(ying)砂溶制的坩堝表面涂上(shang)一層(ceng)(ceng)高(gao)純度石英(ying)(ying)砂使其(qi)形(xing)成致密層(ceng)(ceng)，其(qi)致密層(ceng)(ceng)能阻止單晶硅(gui)高(gao)溫拉制過程中硅(gui)與石英(ying)(ying)坩堝反應提高(gao)成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純石英(ying)砂→高(gao)純石墨模具→真空裝料成型(xing)→真空電弧熔制→自(zi)(zi)然冷(leng)卻脫(tuo)模→石英(ying)坩(gan)堝(guo)初(chu)步檢測(ce)→冷(leng)加工噴砂、切斷、倒角→石英(ying)坩(gan)堝(guo)二次檢測(ce)→超凈(jing)清(qing)洗、超聲、高(gao)壓噴淋、自(zi)(zi)動(dong)烘干→石英(ying)坩(gan)堝(guo)三次檢驗(yan)→真空包裝→成品(pin)入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝(guo)可(ke)在1450度以下(xia)使用(yong)，分(fen)透明(ming)和不透明(ming)兩種(zhong)。用(yong)電弧法(fa)制的(de)半(ban)透明(ming)石(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝(guo)是拉制大直(zhi)徑(jing)單晶硅，發展(zhan)大規模(mo)集(ji)成電路必不可(ke)少的(de)基礎材料。

當今(jin)，世界半導(dao)體工業發達已用此坩(gan)堝(guo)取代了小(xiao)的透(tou)明(ming)石英坩(gan)堝(guo)。具有(you)高純度(du)、耐溫性強、尺(chi)寸(cun)大精度(du)高、保溫性好(hao)、節約能源、質量穩定等優點。

　　2、不能和(he)HF接(jie)觸，高溫時(shi)，較容易(yi)易(yi)和(he)苛性(xing)堿(jian)及堿(jian)金屬的(de)碳酸鹽作用。

　　3、石英坩堝適(shi)于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣(yang)品和用(yong)Na2S207（先在(zai)212度烘(hong)干）作熔劑處(chu)理樣(yang)品。

　　4、石英質脆，易破，使用時(shi)要注意。

　　5、除HF外，普通稀無機(ji)酸可用作清洗液。