目(mu)前(qian)石(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)(ying)坩堝(guo)生產涂層技術已(yi)被大多數廠家使用就是在普通石(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)(ying)砂溶制(zhi)的(de)坩堝(guo)表面涂上一層高(gao)純度石(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)(ying)砂使其形成(cheng)致密(mi)層，其致密(mi)層能阻止單晶(jing)硅高(gao)溫拉制(zhi)過(guo)程中(zhong)硅與(yu)石(shi)(shi)英(ying)(ying)(ying)(ying)坩堝(guo)反應提高(gao)成(cheng)晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明(ming)高純石(shi)英砂→高純石(shi)墨模具→真空裝料成型→真空電弧熔(rong)制→自(zi)然冷卻脫模→石(shi)英坩堝初(chu)步檢測→冷加工噴(pen)砂、切斷、倒(dao)角→石(shi)英坩堝二次檢測→超(chao)(chao)凈清洗、超(chao)(chao)聲、高壓噴(pen)淋(lin)、自(zi)動(dong)烘干→石(shi)英坩堝三次檢驗(yan)→真空包裝→成品(pin)入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩(gan)堝(guo)可(ke)在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的(de)半透明石(shi)英坩(gan)堝(guo)是拉制大直徑(jing)單晶(jing)硅，發展大規模集成電路必不可(ke)少的(de)基礎材料。

當今，世界半(ban)導體工業發達(da)已用此(ci)坩堝取代了小(xiao)的透明(ming)石英坩堝。具有高純度(du)、耐溫(wen)性強、尺寸(cun)大精度(du)高、保溫(wen)性好(hao)、節約能源、質量穩(wen)定等優點。

　　2、不能和HF接觸，高(gao)溫(wen)時，較(jiao)容易易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽(yan)作用。

　　3、石英坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑熔(rong)融(rong)樣品(pin)和用(yong)Na2S207（先(xian)在212度(du)烘(hong)干(gan)）作熔(rong)劑處理樣品(pin)。

　　4、石英質脆，易破，使(shi)用時要注(zhu)意。

　　5、除HF外(wai)，普通稀無機酸可用作清洗液。