目前石英(ying)坩(gan)堝(guo)生產涂(tu)層(ceng)技術已被(bei)大(da)多(duo)數廠家使用就是在普通石英(ying)砂溶制的坩(gan)堝(guo)表面涂(tu)上一層(ceng)高(gao)純度石英(ying)砂使其形成(cheng)致(zhi)密層(ceng)，其致(zhi)密層(ceng)能阻止單晶硅(gui)高(gao)溫拉制過(guo)程中(zhong)硅(gui)與石英(ying)坩(gan)堝(guo)反應提高(gao)成(cheng)晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純(chun)石英(ying)砂(sha)→高純(chun)石墨(mo)模(mo)(mo)具(ju)→真空裝(zhuang)料成(cheng)型→真空電弧熔(rong)制→自然冷卻脫模(mo)(mo)→石英(ying)坩(gan)堝初步檢測(ce)→冷加(jia)工(gong)噴(pen)砂(sha)、切斷、倒角→石英(ying)坩(gan)堝二次檢測(ce)→超凈清洗(xi)、超聲、高壓(ya)噴(pen)淋、自動(dong)烘干(gan)→石英(ying)坩(gan)堝三次檢驗→真空包(bao)裝(zhuang)→成(cheng)品入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩堝可在(zai)1450度以下使用(yong)，分透(tou)明(ming)和不(bu)透(tou)明(ming)兩(liang)種。用(yong)電弧法制的半透(tou)明(ming)石(shi)英坩堝是拉(la)制大(da)直(zhi)徑單(dan)晶硅，發展大(da)規模集(ji)成(cheng)電路必不(bu)可少的基礎材料。

當今，世界半導(dao)體工(gong)業發(fa)達已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。具有(you)高純(chun)度、耐溫性(xing)強、尺寸(cun)大精(jing)度高、保溫性(xing)好、節(jie)約能(neng)源、質量穩定等(deng)優點。

　　2、不能和HF接觸，高溫時，較容(rong)易易和苛性堿及堿金屬的(de)碳酸鹽作(zuo)用。

　　3、石英坩(gan)堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)(rong)劑熔(rong)(rong)融(rong)樣(yang)品和(he)用(yong)Na2S207（先在212度烘干）作熔(rong)(rong)劑處理(li)樣(yang)品。

　　4、石英質脆，易破，使用(yong)時要(yao)注意(yi)。

　　5、除HF外，普通稀無機酸(suan)可(ke)用作(zuo)清洗(xi)液。