目前石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝生產涂層技術已(yi)被(bei)大多數廠家使用就是在普(pu)通石(shi)(shi)英(ying)砂溶制的坩(gan)堝表(biao)面涂上一層高(gao)純度石(shi)(shi)英(ying)砂使其形成致密(mi)層，其致密(mi)層能阻止單晶硅(gui)高(gao)溫(wen)拉制過程中硅(gui)與石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝反應(ying)提高(gao)成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純(chun)石英(ying)砂→高(gao)純(chun)石墨模(mo)具(ju)→真空(kong)裝料成型(xing)→真空(kong)電(dian)弧熔(rong)制→自然冷卻脫模(mo)→石英(ying)坩(gan)堝(guo)初步檢測→冷加工噴砂、切斷、倒角→石英(ying)坩(gan)堝(guo)二次(ci)檢測→超(chao)凈清洗、超(chao)聲(sheng)、高(gao)壓(ya)噴淋(lin)、自動烘干→石英(ying)坩(gan)堝(guo)三(san)次(ci)檢驗→真空(kong)包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)坩堝(guo)可(ke)在1450度以(yi)下使(shi)用，分透明(ming)(ming)和(he)不(bu)透明(ming)(ming)兩(liang)種。用電弧法制(zhi)的半透明(ming)(ming)石英(ying)坩堝(guo)是拉制(zhi)大直徑單晶硅(gui)，發展(zhan)大規模集成電路必不(bu)可(ke)少的基礎材(cai)料(liao)。

當今，世界半導體工(gong)業發(fa)達已用此坩堝取(qu)代了小的透明石英坩堝。具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好(hao)、節(jie)約能(neng)源、質量(liang)穩定等優點。

　　2、不能(neng)和(he)(he)HF接(jie)觸，高溫時，較容易易和(he)(he)苛性堿及堿金屬的碳(tan)酸鹽作用(yong)。

　　3、石英(ying)坩堝適于(yu)用K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔(rong)劑熔(rong)融樣品和(he)用Na2S207（先在212度烘干）作(zuo)熔(rong)劑處理樣品。

　　4、石英質(zhi)脆，易破，使用時要注意。

　　5、除HF外，普通稀(xi)無機酸(suan)可用(yong)作清洗液(ye)。