目前石(shi)英坩堝(guo)生產涂(tu)層技術(shu)已被大多數廠(chang)家使用就是在普通石(shi)英砂溶(rong)制的坩堝(guo)表面涂(tu)上一層高純度(du)石(shi)英砂使其形成致(zhi)密層，其致(zhi)密層能阻止單(dan)晶硅高溫拉(la)制過程(cheng)中硅與石(shi)英坩堝(guo)反應(ying)提高成晶率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石(shi)(shi)英(ying)砂→高純石(shi)(shi)墨模具→真(zhen)空裝料成型→真(zhen)空電(dian)弧熔制(zhi)→自然(ran)冷卻脫(tuo)模→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝初步檢(jian)測(ce)→冷加工噴砂、切斷、倒角→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝二次(ci)檢(jian)測(ce)→超凈清洗(xi)、超聲、高壓(ya)噴淋、自動烘(hong)干(gan)→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝三(san)次(ci)檢(jian)驗→真(zhen)空包裝→成品入(ru)庫(ku)。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)(ying)坩(gan)(gan)堝可在1450度以下使用，分透(tou)(tou)明(ming)和不(bu)(bu)透(tou)(tou)明(ming)兩種。用電弧法制的半透(tou)(tou)明(ming)石英(ying)(ying)坩(gan)(gan)堝是拉制大直(zhi)徑單晶硅，發展(zhan)大規模集成電路必(bi)不(bu)(bu)可少的基礎(chu)材料。

當今，世(shi)界半導體工業(ye)發達已用此坩(gan)堝(guo)取代了小(xiao)的透明石英坩(gan)堝(guo)。具有高(gao)純度(du)、耐溫(wen)性(xing)強、尺寸大精度(du)高(gao)、保(bao)溫(wen)性(xing)好、節約能源、質量穩定等優點。

　　2、不能和HF接觸(chu)，高(gao)溫(wen)時(shi)，較容易(yi)易(yi)和苛性堿及(ji)堿金(jin)屬的碳(tan)酸鹽作用。

　　3、石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔(rong)劑熔(rong)融樣品和用Na2S207（先在(zai)212度烘干）作(zuo)熔(rong)劑處理樣品。

　　4、石英質脆(cui)，易破，使用時(shi)要注(zhu)意。

　　5、除HF外，普通(tong)稀無機酸可(ke)用作清洗液。