目前石英(ying)坩堝(guo)生產涂層技術已被大多數(shu)廠家使用就是在普通石英(ying)砂溶制(zhi)的坩堝(guo)表面涂上一層高純度石英(ying)砂使其形成(cheng)致(zhi)(zhi)密層，其致(zhi)(zhi)密層能阻止單晶硅(gui)高溫(wen)拉制(zhi)過程中硅(gui)與石英(ying)坩堝(guo)反應提(ti)高成(cheng)晶率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純(chun)石英砂→高(gao)純(chun)石墨模具→真(zhen)空(kong)裝(zhuang)料(liao)成型(xing)→真(zhen)空(kong)電弧熔(rong)制→自(zi)然冷卻脫模→石英坩堝初步檢(jian)測→冷加工噴砂、切斷、倒角→石英坩堝二(er)次檢(jian)測→超凈清洗、超聲、高(gao)壓噴淋、自(zi)動烘干→石英坩堝三次檢(jian)驗(yan)→真(zhen)空(kong)包裝(zhuang)→成品(pin)入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩(gan)堝可在1450度以(yi)下使用(yong)，分(fen)透(tou)(tou)(tou)明(ming)(ming)和(he)不(bu)透(tou)(tou)(tou)明(ming)(ming)兩(liang)種(zhong)。用(yong)電弧法(fa)制(zhi)的半透(tou)(tou)(tou)明(ming)(ming)石(shi)英坩(gan)堝是(shi)拉制(zhi)大直徑單(dan)晶硅，發展大規模(mo)集成電路必(bi)不(bu)可少的基礎(chu)材料。

當今，世界半導體工業發達已用此(ci)坩堝(guo)取代了小的透明石英坩堝(guo)。具(ju)有高純度、耐溫性強、尺(chi)寸大精度高、保(bao)溫性好(hao)、節約能(neng)源、質量穩定等(deng)優點。

　　2、不能和HF接觸(chu)，高溫(wen)時，較容易易和苛性堿及堿金屬(shu)的碳酸鹽作用。

　　3、石英坩堝(guo)適于(yu)用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣品(pin)和用(yong)Na2S207（先在212度烘(hong)干）作熔劑處理樣品(pin)。

　　4、石英質(zhi)脆，易破，使用時要注(zhu)意。

　　5、除HF外，普通(tong)稀(xi)無機酸可用作清(qing)洗液(ye)。