目(mu)前(qian)石(shi)(shi)英(ying)坩堝生產涂層技術(shu)已被大多數(shu)廠家(jia)使用就是在普通石(shi)(shi)英(ying)砂(sha)溶制的(de)坩堝表(biao)面(mian)涂上一層高(gao)純度(du)石(shi)(shi)英(ying)砂(sha)使其形成(cheng)致密層，其致密層能阻止(zhi)單晶(jing)硅(gui)高(gao)溫拉制過(guo)程中硅(gui)與(yu)石(shi)(shi)英(ying)坩堝反(fan)應(ying)提高(gao)成(cheng)晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純石(shi)(shi)英砂→高(gao)純石(shi)(shi)墨模具→真空(kong)裝(zhuang)料成型→真空(kong)電弧熔制→自然冷卻脫模→石(shi)(shi)英坩堝初步檢測(ce)→冷加(jia)工噴(pen)砂、切斷、倒角→石(shi)(shi)英坩堝二次檢測(ce)→超凈清洗(xi)、超聲、高(gao)壓(ya)噴(pen)淋、自動(dong)烘干→石(shi)(shi)英坩堝三次檢驗→真空(kong)包裝(zhuang)→成品入庫(ku)。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)(ying)坩堝可(ke)在1450度以下(xia)使用(yong)，分透明和不透明兩種。用(yong)電(dian)弧法制的(de)半透明石英(ying)(ying)坩堝是(shi)拉制大直徑(jing)單晶(jing)硅，發展大規模集成(cheng)電(dian)路必不可(ke)少的(de)基礎材料。

當(dang)今(jin)，世界半導體工業發達已用此坩堝取代了(le)小的透明石英坩堝。具有(you)高(gao)(gao)純度(du)、耐溫(wen)性強、尺寸大精度(du)高(gao)(gao)、保(bao)溫(wen)性好、節約能源、質量穩定(ding)等優點。

　　2、不能和HF接觸，高溫時，較容(rong)易(yi)易(yi)和苛性堿(jian)及堿(jian)金(jin)屬的碳酸鹽作用。

　　3、石英坩堝適(shi)于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑(ji)熔(rong)融(rong)樣(yang)品(pin)和(he)用(yong)Na2S207（先在212度烘干(gan)）作熔(rong)劑(ji)處理樣(yang)品(pin)。

　　4、石英質脆，易破，使(shi)用時要(yao)注意。

　　5、除(chu)HF外(wai)，普(pu)通稀無機(ji)酸可用作清洗液。