目前石(shi)英坩(gan)(gan)堝(guo)生產涂層(ceng)(ceng)技術已被(bei)大多數廠家使用(yong)就是在普通石(shi)英砂溶制(zhi)的坩(gan)(gan)堝(guo)表面涂上一層(ceng)(ceng)高(gao)純度石(shi)英砂使其形成致密層(ceng)(ceng)，其致密層(ceng)(ceng)能阻止單(dan)晶(jing)(jing)硅(gui)高(gao)溫(wen)拉制(zhi)過程中硅(gui)與(yu)石(shi)英坩(gan)(gan)堝(guo)反應提(ti)高(gao)成晶(jing)(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純(chun)石(shi)(shi)英(ying)砂(sha)→高純(chun)石(shi)(shi)墨模(mo)具→真空裝料成型→真空電弧熔制→自然冷卻脫模(mo)→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)(gan)堝初步檢測→冷加工(gong)噴砂(sha)、切斷(duan)、倒角→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)(gan)堝二次(ci)檢測→超凈清洗、超聲、高壓噴淋(lin)、自動烘(hong)干→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)(gan)堝三次(ci)檢驗→真空包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩堝可在(zai)1450度以下使用(yong)，分(fen)透(tou)明和(he)不透(tou)明兩種。用(yong)電(dian)弧法制的(de)半(ban)透(tou)明石(shi)英坩堝是拉制大直(zhi)徑單晶硅，發展大規模(mo)集成電(dian)路必不可少的(de)基礎材料。

當今，世(shi)界半導體工業(ye)發達已用此坩堝取(qu)代了小的透明石英坩堝。具(ju)有高(gao)純度(du)(du)、耐溫性(xing)(xing)強、尺寸(cun)大(da)精(jing)度(du)(du)高(gao)、保溫性(xing)(xing)好、節(jie)約(yue)能源、質量穩定(ding)等優點(dian)。

　　2、不能(neng)和(he)HF接(jie)觸，高溫(wen)時，較容(rong)易易和(he)苛性堿(jian)及(ji)堿(jian)金屬的碳酸鹽(yan)作用。

　　3、石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔劑熔融樣品(pin)和用Na2S207（先在(zai)212度(du)烘干）作(zuo)熔劑處理樣品(pin)。

　　4、石英(ying)質脆，易破(po)，使用時(shi)要注意。

　　5、除(chu)HF外，普通稀無(wu)機酸可用作清(qing)洗液。