目前石(shi)英坩堝(guo)生產涂層(ceng)技(ji)術已被(bei)大多數廠家使用就是(shi)在普通石(shi)英砂溶制的坩堝(guo)表面涂上(shang)一層(ceng)高純(chun)度(du)石(shi)英砂使其形成(cheng)致(zhi)密層(ceng)，其致(zhi)密層(ceng)能阻(zu)止單晶(jing)硅高溫拉制過程中硅與石(shi)英坩堝(guo)反應提高成(cheng)晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純石(shi)(shi)英砂(sha)→高(gao)純石(shi)(shi)墨模(mo)具→真空裝料成(cheng)型→真空電(dian)弧熔制→自然冷(leng)卻脫模(mo)→石(shi)(shi)英坩堝初(chu)步(bu)檢測→冷(leng)加工噴(pen)砂(sha)、切斷、倒角→石(shi)(shi)英坩堝二次(ci)檢測→超凈清洗、超聲、高(gao)壓(ya)噴(pen)淋、自動烘干→石(shi)(shi)英坩堝三次(ci)檢驗(yan)→真空包(bao)裝→成(cheng)品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝(guo)可(ke)在1450度以下使(shi)用，分透明(ming)和(he)不透明(ming)兩種(zhong)。用電弧法(fa)制(zhi)(zhi)的(de)半(ban)透明(ming)石英坩堝(guo)是拉制(zhi)(zhi)大直徑(jing)單晶硅(gui)，發(fa)展大規模(mo)集成電路必不可(ke)少的(de)基礎材料(liao)。

當今(jin)，世界半導(dao)體工業發達已(yi)用(yong)此(ci)坩(gan)堝取代了小的透明石英坩(gan)堝。具有高(gao)純度、耐溫(wen)性強、尺寸大(da)精度高(gao)、保溫(wen)性好(hao)、節約能源、質量(liang)穩定等優點。

　　2、不能和HF接觸，高溫時，較(jiao)容易(yi)易(yi)和苛(ke)性堿(jian)及堿(jian)金屬的碳(tan)酸鹽(yan)作用(yong)。

　　3、石英坩堝適(shi)于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔劑(ji)熔融(rong)樣品(pin)和用(yong)Na2S207（先在(zai)212度烘干）作熔劑(ji)處理樣品(pin)。

　　4、石英質脆，易破，使用時要注意。

　　5、除HF外，普通稀無機(ji)酸可用作清洗液。