目前(qian)石(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝(guo)生產涂層技(ji)術已被大多數(shu)廠家(jia)使(shi)用就是在普通(tong)石(shi)英(ying)(ying)砂(sha)溶制的坩(gan)堝(guo)表面涂上一層高(gao)純度(du)石(shi)英(ying)(ying)砂(sha)使(shi)其形成(cheng)(cheng)致密層，其致密層能阻止單晶(jing)硅高(gao)溫拉制過程中硅與石(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝(guo)反應提高(gao)成(cheng)(cheng)晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤(you)尼明高純石(shi)英(ying)砂→高純石(shi)墨(mo)模具(ju)→真空(kong)裝料(liao)成型(xing)→真空(kong)電(dian)弧熔制→自然冷卻脫(tuo)模→石(shi)英(ying)坩(gan)堝初步檢測→冷加工噴(pen)砂、切斷、倒角→石(shi)英(ying)坩(gan)堝二次(ci)檢測→超凈清洗(xi)、超聲(sheng)、高壓噴(pen)淋(lin)、自動烘干→石(shi)英(ying)坩(gan)堝三次(ci)檢驗→真空(kong)包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝(guo)可在1450度(du)以下使(shi)用，分(fen)透明和不(bu)透明兩種。用電(dian)弧法制的半透明石英坩堝(guo)是拉制大直徑單晶硅，發展(zhan)大規模集成電(dian)路必不(bu)可少的基礎材(cai)料(liao)。

當今，世界半導體工業發達已(yi)用此坩堝取代了小的透明(ming)石英坩堝。具有高(gao)純度、耐溫性強(qiang)、尺寸大(da)精(jing)度高(gao)、保溫性好、節約能源、質量穩定等優點。

　　2、不能和(he)HF接觸，高溫時，較容易(yi)易(yi)和(he)苛性(xing)堿(jian)及(ji)堿(jian)金屬的碳(tan)酸鹽作(zuo)用。

　　3、石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔劑(ji)熔融樣品和用Na2S207（先(xian)在(zai)212度(du)烘干）作熔劑(ji)處理樣品。

　　4、石(shi)英質脆，易破，使(shi)用時要注意。

　　5、除HF外，普通稀無(wu)機酸可用作(zuo)清洗液。